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          气相沉积

          气相沉积技术按照成膜机理可分为化学气相沉积、物理气相沉积和等离子体气相沉积。气相沉积栏目主要讲述了化学气相沉积技术与工艺,物理气相沉积原理等气相沉积技术。

          MPCVD学制备石墨烯的研讨进展

          文章首先通过分析比较得出了筹备石墨烯的几乎种重要措施的得失,关键强调了微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)学制备石墨烯的优势。

          晶体界“背脊”场景对热障涂层热冲击寿命的熏陶
          本文的重点研究工作是以化学气相沉积和电子束物理气相沉积技术在镍基单晶高温合金上分别制备铂改性铝化物涂层和陶瓷热障涂层,拓展粘结层表面晶界“背脊”场景对热障涂层体系热冲击寿命的熏陶行为与可能的TBCs 剥落失效机理研究。
          PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色种类
          PVD镀膜目前能做出的膜层的颜色发好金黄色,浅尝辄止金黄色,咖啡色,古铜色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。
          化学气相沉积/原子层沉积铜前驱体的研讨进展
          本文介绍了使化学气相沉积技术及原子层沉积技术沉积铜薄膜工艺的研讨;概述了以所述前驱体进行铜薄膜沉积的参数及所筹铜薄膜的导电性能。
          目标基距和锭料蒸发速率对沉积薄板厚度均匀性的熏陶
          按部就班工作根据真空蒸镀中小面来具有方向性的发射特性,就是余弦角度分布规律,以结合EBPVD本人发射特点,起了一个多锭料蒸发理论模型,座谈了目标基距和不同坩埚蒸发速率对厚度均匀性和有效性蒸发效率的熏陶,连对实际沉积薄板厚度分布进行了预测。
          不同频率溅射沉积的最新耐磨二硼化钒涂层的构造和性能
          本文的重点目的就是是拣几种不同频率的电源制备VB2涂层,测试和较差频率下制备出的最新VB2涂层的构造与性。
          CVD一直生长技术飞速碳纳米管镍氢电池的研讨
          使热化学气相沉积技术(CVD),于泡沫镍表面直接生长多壁碳纳米管(MWNT),这个MWNT-泡沫镍基底为电池集流体,连运该基底、经干粉末滚压工艺制备镍氢电池电极,针对电池进行了一连串的充放电性能测试。
          MPCVD学合成单晶金刚石的研讨和利用进展
          本文简介近年来MPCVD技术合成单晶金刚石的研讨进展,评论了当该研究领域处于领先位置的英美日等国关于企业和研究单位所得的收获,连对单晶金刚石的使用前景作出了展望。
          冲数字模拟的PECVD沉积氮化硅薄膜的工艺参数决策办法研究
          本文提出了因数字模拟的PECVD沉积氮化硅薄膜的工艺参数决策办法,概括了才元素试验与数字模拟的正交试验设计两种优化方法。
          大批量小刀具HFCVD涂层制备的温度场仿真与试验分析
          本文为HFCVD沉积大批量小刀具金刚石涂层系统也研究对象,便民用有限容积法的假冒伪劣方法,针对影响基体温度场的大多只工艺参数进行仿真与分析,连提出优化设计的方案。
          固态碳源温度对学CVD长石墨烯薄膜影响之研讨
          本文主要探索了固态源温度变化对石墨烯生长的熏陶,连以固态源动态变暖的方式生长了石墨烯,中增长了所得石墨烯薄膜的覆盖率。
          MPCVD学制备低粒径纳米金刚石薄膜的研讨
          使MPCVD学,因Ar/H2/CH4也气来,追较高浓度氩气和气压条件下低粒径纳米金刚石的筹措工艺,连对长的纳米金刚石膜的结晶尺寸,薄膜质量,残余应力,外部形貌进行分析。
          微波等离子体化学气相沉积超纳米晶金刚石膜研究
          过纳米晶金刚石(UNCD)于短缺毫米波特别是绝赫兹真空器件输能窗中有潜在的使用价值。本文介绍了UNCD膜的筹措工艺及性表征。
          MPCVD工艺参数对石墨烯性能影响之研讨
          试验采用MPCVD安装,因氢气和甲烷为第一气来,氮气和氩气为拉气来在镍片上长石墨烯薄膜,连对不同规格下制备样品进行拉曼光谱仪表征。
          微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)学在碳纤维上制备碳纳米管
          动微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)学在碳纤维上制备了碳纳米管,连于这基础上系统地研究了微波功率、影响时间、催化剂前驱体的吸烟时间和吸附浓度对碳纳米管生长的熏陶。


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